紫外線水處理器的水力限制基本原理：

　　根據現有的能夠獲得的信息，紫外線照耀區内的水流過量的縱向混合導緻某些部分照耀不充分，相似的，不充分的橫向混合也可能導緻同的狀況呈現。合理的污水紫外線水處理器進口結構和渠道設計能夠保證多級反應器的初個反應器中的流速均勻。同樣，合理的污水紫外線水處理器出口和管道系統設計也能确保出口狀況不會對一個反應器的水力狀态發生晦氣影響。一般都希望有均勻的流速散布，但是這并不能保證紫外線照耀區域有良好的水力條件。當進出口條件不一緻，例如幾何形狀、擴散器或流體控制器的位置，需要測量流速在污水紫外線水處理器中的散布。

　　紫外線水處理器的反應器的進出口設計由紫外線設備生産商擔任，且用速率圖表明。速度散布的水力學測驗有必要包括在紫外線消毒系統功能驗證協議内。在驗證後的紫外線設備的實踐安裝中有必要維持進出口流速散布。假如進出口狀況與驗證後的系統相同，便不再需要速率圖。在任何狀況下，多級反應器都有必要在與設備嚴整的相同速度範圍内運轉。

　　在飲用水中使用的紫外線水處理器系統，不能由于紫外線水處理器價格因素而允許把小規模設備放大來用。隻能使用根據紫外線消毒驗證協議的實踐反應器。驗證後反應器模塊排列能在實踐使用中使用。

　　在紫外線水處理器系統的布置中，有必要考慮下列水力學因素（根據設備的功能驗證成果）：

　　1、初個污水紫外線水處理器反應器前所需渠道長度和狀況；

　　2、在水位控制設備或其他管路設備（如閥門和彎頭）和一個反應器之間的出流長度；

　　3、多級污水紫外線水處理器反應器的距離：除了滿足水力條件外，還有必要留出修理通道；

　　4、能夠使用任何紫外線水處理器反應器原附部件來實現或提高設備的流體速率均一性；

　　5、需有清洗設備/機制的存在和運轉。